地下水氯仿污染場址整治工程

場址背景

本場自1987年開始營運，為GMP合成藥廠。運作初期曾短暫使用三氯甲烷（氯仿），經調整製程後即停止使用三氯甲烷。2012年環境部（原環保署）於場內監測井檢出微量三氯甲烷，歷經環保局定期監測，有持續上升趨勢，2018年濃度超過管制標準，因此公告為地下水污染控制場址並劃定管制區。

污染情形

經分階段多重調查評估界定地下水污染洩漏來源與污染分布，確認本場僅地下水三氯甲烷污染，並侷限於地下廢水處理設施附近，污染達本區第一含水層底部，平均深度約至地表下13公尺（12~15公尺）。廢水處理設施位於場址下游邊界區域，地下環境相對其他區域屬低滲透性地層，因早期運作過程污染物不慎洩漏，長年累積於該區地下環境中，已吸附在坋黏土表面或擴散進入坋黏土地層，並持續緩慢脫附與擴散，造成持久性污染源。

執行成效

本場址鄰近廠邊界區域，以現地化學氧化法進行污染改善，透過鹼活化過硫酸鹽藥劑處理地下水污染物，避免生物復育法衍生降解污染產物而擴及廠外問題。歷經模場灌注試驗後，確認灌注影響半徑與消減成效，接續進行四次全場址藥劑灌注。以多深度雙環塞滲透灌注工法於高濃度區域、低滲透性地層深度範圍灌注藥劑，各次藥劑配比、灌注量則依前次改善後濃度變化、分布與現場基本水質進行調整。改善初期地下水污染濃度即明顯下降，第二次灌注後即符合改善目標，下游邊界區域濃度持續維持偏低，故提早完成自主驗證及環保局驗證通過，順利解除地下水污染場址列管。

研究成果獲獎

瑞昶科技工作團隊發展應用檢知管進行地下水中三氯甲烷污染濃度篩測試驗，於現場可迅速獲得地下水污染物濃度變化，配合地質條件，即時調整現場藥劑配比、灌注整治工作設計（如灌注量、灌注深度、灌注壓力）等，提高污染改善效益。研究成果發表於《2022年土壤及地下水污染整治》研討會海報並獲得優選佳作。