中油高雄煉油廠第4-2區污染整治工程

場址背景

中油高雄煉油廠自建廠至今約 80 年，於 2015 年 11 月停工，停工後陸續拆除設備進行整治。為加速推動產業轉型，促使台積電等半導體大廠在當地設廠，高雄市政府積極推動污染整治計畫，規劃全廠 1,700,000 平方公尺污染整治提前至 2026 年底完成，使土地全面活化。瑞昶科技於 2021 年開始執行該場址第 4-2 區的整治工作。

污染情形

總石油碳氫化合物、苯、甲苯、乙苯與二甲苯，4-2 區 92,000 平方公尺的範圍中，受污染面積達 58,000 平方公尺，污染深度約為地表下 2~6 公尺處。

執行成效

• 運用工廠廠區配置、運作物料、航照圖與其他各種資料與圖件，配合現場踏勘、先進的探測技術與系統性的調查及採樣檢測，調查出污染在地下的分布範圍。
• 污染嚴重的區域採用高強度開挖、再以土壤清洗或生物堆復育技術削減污染物。
• 輕度污染或者具有安全疑慮不適合開挖的區域，則是採用現地整治技術，降低污染改善作業對周圍既存設施的衝擊，包含土壤氣體抽除法、空氣注入法、雙環塞滲透灌注工法等。
• 瑞昶科技熟知各項技術優劣及限制，有效搭配設計以取得最佳的污染改善成效，在計畫有時間有限、開挖及整治工程量體大、現場可利用空間有限及現地整治難度極高等諸多限制下，本計畫仍於 458 個日曆天完成整治，且於 2024 年 4 月公告解除 4-2 區污染控制場址列管。